ML/MM は機械的埋め込みでは動的電荷を捉えられず、電場入力モデル (DPMD 等) は QM/MM 学習データの再訓練が必要で汎用性が低い。
→ 真空中 ML エネルギーに「静電埋め込み近似 + 分極補正」を事後付加する第3カテゴリで Amber に実装。
ANI-2x データセット上で再利用、AEV 計算を共有。
E_total = E_vac(ML) + E_D(ML) + E_MM + E_elec(ML/MM)
E_elec = Σ q_i q_j(R_ML) / r_ij + E_polar
E_polar = −1/ε Σ α_free|E_MM|² , E_D = −E_polar/2
| 手法 | 動的電荷 | 汎用性 |
|---|---|---|
| 機械的埋込 (ME) | × | 高 |
| 電場入力 ML | ○ | 低 |
| ANI-MBIS+polar | ○ | ★高 |
| QM/MM | ○ | 低 (高コスト) |
荷電分子・金属配位は対象外
NNP/MM ベースの長時間 MD・FEP のリガンドハミルトニアン計算で利用可能。